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  • 磁控溅射镀膜设备

    磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁） 之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。

    型号： MSP-300/4... 所在地：北京市参考价： ￥10更新时间：2025/4/28 8:42:06 对比
    磁控溅射镀膜
  • 化学气相沉积（PECVD）

    是一种在沉积腔室利用辉光放电使其电离后在衬底上进行化学反应沉积的半导体薄膜材料制备和其他材料薄膜的制备方法

    型号： PECVD-601... 所在地：北京市参考价： ￥10更新时间：2025/4/28 8:41:28 对比
    PECVD气相沉积
  • 热阻/电子束蒸发镀膜机设备

    电子束蒸发系统是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术。它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的金属，使其熔融后蒸发到所需基片上形成金属膜。可蒸发很多难熔金属或...

    型号： MEB-600/8... 所在地：北京市参考价： ￥10更新时间：2025/4/28 8:35:14 对比
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